Intel a promis acum câteva luni că va sări la 7 nanometri în viitorul foarte apropiat, iar zilele trecute CEO-ul relativ nou al companiei a reafirmat intenția companiei de a face acel salt.
Nu doar asta, dar Bob Swan chiar a explicat de ce tehnologia de litografie pe 10 nanometri a întârziat atât de mult. Conform opiniei sale, acest nod de producție a fost prea agresiv. Compania a vrut să facă prea mult, prea rapid, având prea multă ambiție, ceva ce a rezultat în întârzieri și amânări repetate. Ceva similar s-a întâmplat și cu procesul de 14 nanometri, dar acea întârziere a fost de doar un singur ciclu suplimentar de produse, motiv pentru care am avut parte de un Devil’s Canyon Haswell Refresh. Din fericire, când procesul de 14 nanometri era gata, am sărit direct de la acel Refresh la Skylake, pe desktop Broadwell fiind sărit aproape în totalitate.
Am putea avea parte pe desktop de ceva similar, nu doar cu o generație de procesoare, dar cu procesul pe care sunt construite. Tehnologia pe 10 nanometri va fi de scurtă durată, iar din moment ce Intel nu prea are nimic în program pentru desktop până în 2021, nu este exclusă posibilitatea unui salt direct la 7 nanometri. Compania promite densitate dublă față de tehnologia actuală de producție, alături de simplificarea designului, ceea ce ar trebui să ducă la câteva procesoare foarte interesante… prin 2021.
Până atunci, va trebui să așteptăm și să vedem dacă Intel chiar are pregătit ceva pentru desktop în următoarele 18 luni, fiindcă deocamdată nu a prezentat nimic pentru acest segment.
